最近の研究 炭酸ガスを用いたプラズマCVD--シリコン酸・窒化膜への応用
Bibliographic Information
- Other Title
-
- サイキン ノ ケンキュウ タンサンガス オ モチイタ プラズマ CVD シリコンサン チッカ マク エ ノ オウヨウ
Search this article
Journal
-
- まてりあ = Materia Japan
-
まてりあ = Materia Japan 45 (11), 797-802, 2006-11
仙台 : 日本金属学会 ; 1994-
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520009408797964928
-
- NII Article ID
- 10019276023
-
- NII Book ID
- AN10433227
-
- ISSN
- 13402625
-
- NDL BIB ID
- 8591281
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
-
- Data Source
-
- NDL
- CiNii Articles
