低温水素イオン注入により導入されたシリコン結晶欠陥の特性分析
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- テイオン スイソ イオン チュウニュウ ニ ヨリ ドウニュウ サレタ シリコン ケッショウ ケッカン ノ トクセイ ブンセキ
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- 愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編
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愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編 (5), 45-49, 2003-06
豊田 : 愛知工業大学総合技術研究所
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520009409768855296
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- NII Article ID
- 110000965954
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- NII Book ID
- AA11484797
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- ISSN
- 13449672
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- NDL BIB ID
- 6719431
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
