低温水素イオン注入により導入されたシリコン結晶欠陥の特性分析
書誌事項
- タイトル別名
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- テイオン スイソ イオン チュウニュウ ニ ヨリ ドウニュウ サレタ シリコン ケッショウ ケッカン ノ トクセイ ブンセキ
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収録刊行物
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- 愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編
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愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編 (5), 45-49, 2003-06
豊田 : 愛知工業大学総合技術研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009409768855296
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- NII論文ID
- 110000965954
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- NII書誌ID
- AA11484797
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- ISSN
- 13449672
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- NDL書誌ID
- 6719431
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles