Raman spectroscopic stress evaluation of femtosecond-laser-modified region inside 4H-SiC
書誌事項
- タイトル別名
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- Raman spectroscopic stress evaluation of femtosecond laser modified region inside 4H SiC
- 4H-SiC内部のフェムト秒レーザー改質部におけるラマン分光学的応力評価
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収録刊行物
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- 技研所報
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技研所報 46 (3), 92-94, 2010-07
東久留米 : 機械振興協会技術研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520010380252368384
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- NII論文ID
- 40017233518
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- NII書誌ID
- AN00050899
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- ISSN
- 0289243X
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- NDL書誌ID
- 10778207
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles