HfO2系High-k材料向けのin-situチャンバークリーニング技術の開発
Bibliographic Information
- Other Title
-
- HfO2ケイ High k ザイリョウ ムケ ノ in situ チャンバー クリーニング ギジュツ ノ カイハツ
- Development of in-situ chamber cleaning technology for Hf-base High-k materials
Search this article
Description
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
Journal
-
- 大陽日酸技報
-
大陽日酸技報 (26), 7-11, 2007
東京 : 大陽日酸技術本部技報編集事務局
