次世代LSIに向けたメタルゲート電極/高誘電率ゲート絶縁膜の高信頼化技術
書誌事項
- タイトル別名
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- ジセダイ LSI ニ ムケタ メタルゲート デンキョク コウユウデンリツ ゲート ゼツエン マク ノ コウシンライカ ギジュツ
- High-reliability technology for metal gate/high-k gate dielectrics for advanced LSIs
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収録刊行物
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- 東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作
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東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作 65 (7), 28-32, 2010-07
東京 : 東芝技術企画部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520010380417189376
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- NII論文ID
- 40017240543
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- NII書誌ID
- AN00166099
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- ISSN
- 03720462
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- NDL書誌ID
- 10786336
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles
