ICPプラズマ源を用いたシリコン深掘りエッチング装置
書誌事項
- タイトル別名
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- ICP プラズマ ゲン オ モチイタ シリコン フカボリ エッチング ソウチ
- Development of Minimal Si-DRIE Tool Using ICP Source
- 小特集 革新的半導体産業システム"ミニマルファブ"におけるプラズマテクノロジー
- ショウトクシュウ カクシンテキ ハンドウタイ サンギョウ システム"ミニマルファブ"ニ オケル プラズマテクノロジー
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収録刊行物
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- プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
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プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編 96 (10), 543-546, 2020-10
名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882054396416
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- NII論文ID
- 40022396951
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- NII書誌ID
- AN10401672
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- ISSN
- 09187928
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- NDL書誌ID
- 030726153
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles
