Pd/a-Si:H積層膜における熱処理および光照射によるシリサイド化反応
書誌事項
- タイトル別名
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- Pd a Si H セキソウ マク ニ オケル ネツ ショリ オヨビ ヒカリ
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抄録
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
収録刊行物
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- 東京電機大学工学部研究報告 / 東京電機大学工学部 編
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東京電機大学工学部研究報告 / 東京電機大学工学部 編 (44), 51-59, 1996-12
東京 : 東京電機大学工学部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882128251520
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- NII論文ID
- 40004362707
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- NII書誌ID
- AN00162961
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- ISSN
- 0389617X
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- NDL書誌ID
- 4293059
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles