MBE growth of Si0.75Ge0.25 Alloy Layers Using (Si14/Ge1)20 and (Si28/Ge2)10 Short-period superlattices
書誌事項
- タイトル別名
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- MBE growth of Si0 75Ge0 25 Alloy Layers Using Si14 Ge1 20 and Si28 Ge2 10 Short period superlattices
- (Si14/Ge1)20及び(Si28/Ge2)10短周期超格子バッファー層を用いたSi0.75Ge0.25合金層のMBE成長
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 102 (434), 65-69, 2002-11-13
東京 : 電子情報通信学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882474605056
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- NII論文ID
- 110003174837
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- NII書誌ID
- AN10012932
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- ISSN
- 09135685
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- NDL書誌ID
- 6401483
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles