不純物濃度によるエッチング速度の違いを利用したシリコン3次元構造体の作製
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- フジュンブツ ノウド ニ ヨル エッチング ソクド ノ チガイ オ リヨウ シタ シリコン 3ジゲン コウゾウタイ ノ サクセイ
- Fabrication of Si 3D-structure using dependence of etching rate on impurity concentration
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- 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]
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「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 34 1-3, 2017
[東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan