MOCVD法によるCeO2薄膜形成時の反応機構--水分子(H2O)の影響
書誌事項
- タイトル別名
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- MOCVDホウ ニ ヨル CeO2 ハクマク ケイセイジ ノ ハンノウ キコウ ミズブンシ H2O ノ エイキョウ
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収録刊行物
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- 法政大学イオンビーム工学研究所報告
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法政大学イオンビーム工学研究所報告 (30), 16-20, 2009
小金井 : 法政大学イオンビーム工学研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290884270504576
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- NII論文ID
- 40018784398
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- NII書誌ID
- AN00354689
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- ISSN
- 02860201
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- NDL書誌ID
- 11061987
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles