SiN薄膜上に形成されたエキシマ・レーザ・アニール法によるPoly-Si薄膜の結晶性

書誌事項

タイトル別名
  • SiN ハクマク ジョウ ニ ケイセイ サレタ エキシマ レーザ アニールホウ ニ ヨル Poly Si ハクマク ノ ケッショウセイ
  • 低温ポリSi TFTと有機EL技術
  • テイオン ポリ Si TFT ト ユウキ EL ギジュツ

この論文をさがす

収録刊行物

参考文献 (6)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ