Observation of Defect Distribution in H Ion Implanted Silicon
書誌事項
- タイトル別名
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- Hイオン注入されたシリコンの欠陥分布観察
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収録刊行物
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- 愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編
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愛知工業大学総合技術研究所研究報告 / 研究報告編集委員会 編 (2), 33-38, 2000-06
豊田 : 愛知工業大学総合技術研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290884736161664
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- NII論文ID
- 110000038623
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- NII書誌ID
- AA11484797
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- ISSN
- 13449672
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- NDL書誌ID
- 5978671
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles