化学堆積法による光導電性アモルファスシリコン薄膜の作製
書誌事項
- タイトル別名
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- カガク タイセキホウ ニ ヨル ヒカリドウデンセイ アモルファス シリコン ハ
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抄録
記事分類: 電気工学--電気材料・部品
収録刊行物
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- 電子写真学会誌
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電子写真学会誌 26 (3), p245-251, 1987-09
東京 : 電子写真学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520291855104977408
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- NII論文ID
- 40004297776
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- NII書誌ID
- AN00261409
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- ISSN
- 0387916X
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- NDL書誌ID
- 3142141
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles