窒化ガリウムスパッタリングターゲットを用いたSi基板上エピタキシャル成膜と評価
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- チッカ ガリウムスパッタリングターゲット オ モチイタ Si キバン ジョウ エピタキシャルセイマク ト ヒョウカ
- Fabrication and Characterization of Epitaxial Film on Si Substrate with GaN Sputtering Target
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Journal
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- 東ソー研究・技術報告 = Tosoh research & technology review / 東ソー株式会社東ソー研究・技術報告編集委員会 編
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東ソー研究・技術報告 = Tosoh research & technology review / 東ソー株式会社東ソー研究・技術報告編集委員会 編 65 (102), 3-10, 2021
周南 : 東ソー
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520291856312935296
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- NII Article ID
- 40022781307
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- NII Book ID
- AA11500962
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- ISSN
- 13463039
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- NDL BIB ID
- 031891583
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZP8(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業)
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- Data Source
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- NDL Search
- CiNii Articles
