屈折率分布型レンズアレイ投影露光リソグラフィによる厚膜レジストパターン形成
書誌事項
- タイトル別名
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- クッセツリツ ブンプガタ レンズアレイ トウエイ ロコウ リソグラフィ ニ ヨル アツマク レジストパターン ケイセイ
- Feasibility of Thick Resist Patterning by Projection Lithography Using a Gradient-Index Lens Array as a Projection Lens
- 光応用・視覚研究会・光応用一般
- ヒカリ オウヨウ ・ シカク ケンキュウカイ ・ ヒカリ オウヨウ イッパン
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収録刊行物
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- 電気学会研究会資料. LAV / 電気学会光応用・視覚研究会 [編]
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電気学会研究会資料. LAV / 電気学会光応用・視覚研究会 [編] 2023 (10・12-18), 1-6, 2023-12-22
東京 : 電気学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520299086514279808
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- NII書誌ID
- AN00346658
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- NDL書誌ID
- 033260543
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN32(科学技術--電気工学・電気機械工業--電力)
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- データソース種別
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- NDL
