TiN電極中の酸素に起因したHf系High-kゲート絶縁膜の特性劣化

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  • TiN デンキョク チュウ ノ サンソ ニ キイン シタ Hfケイ High-kゲート ゼツエンマク ノ トクセイ レッカ
  • Oxygen-induced High-k Dielectric Degradation in TiN/Hf-based High-k Gate Stacks
  • シリコン材料・デバイス
  • シリコン ザイリョウ ・ デバイス

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