半導体ナノテクノロジー研究室の研究概要--3族窒化物半導体薄膜のエピタキシャル成長と評価
書誌事項
- タイトル別名
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- ハンドウタイ ナノテクノロジー ケンキュウシツ ノ ケンキュウ ガイヨウ 3ゾク チッカブツ ハンドウタイ ハクマク ノ エピタキシャル セイチョウ ト ヒョウカ
- Research outline of semiconductor nanotechnology laboratory: epitaxial growth and characterization of 3-nitride semiconductor thin films
- [日本工業大学]創造システム工学科特集号 ; 創造システム工学科の研究活動および研究活動を通じた教育実践
- ニホン コウギョウ ダイガク ソウゾウ システム コウガクカ トクシュウゴウ ; ソウゾウ システム コウガクカ ノ ケンキュウ カツドウ オヨビ ケンキュウ カツドウ オ ツウジタ キョウイク ジッセン
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収録刊行物
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- 日本工業大学研究報告 = Report of researches / Nippon Institute of Technology
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日本工業大学研究報告 = Report of researches / Nippon Institute of Technology 40 (4), 753-756, 2011-02
宮代町 (埼玉県) : 日本工業大学
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520572357602531456
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- NII論文ID
- 40018759326
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- NII書誌ID
- AN00188987
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- ISSN
- 03892514
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- NDL書誌ID
- 11042151
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles