書誌事項
- タイトル別名
-
- ノボラックケイ ポジガタ レジスト ニ オケル ゲンゾウ オンド ト レジスト トクセイ ト ノ カンケイ
- Relationship Between the Development Temperature and the Resist Characteristic of the Positive-Tone Novolak Resist
この論文をさがす
収録刊行物
-
- 高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology
-
高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology 69 (11), 639-645, 2012
東京 : 高分子学会
- Tweet
キーワード
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520572357647582592
-
- NII論文ID
- 10031128196
-
- NII書誌ID
- AN00085011
-
- ISSN
- 03862186
-
- NDL書誌ID
- 024107733
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles
