低ダメージスパッタ堆積プロセスを利用した有機EL素子用電極膜の作製
書誌事項
- タイトル別名
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- テイダメージスパッタ タイセキ プロセス オ リヨウ シタ ユウキ EL ソシヨウ デンキョクマク ノ サクセイ
- Deposition of Top Electrode Films for OLED by Low Damage Sputter-deposition Process
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ・ ザイリョウ
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 115 (297), 19-22, 2015-11
東京 : 電子情報通信学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520572357770246528
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- NII論文ID
- 40020677290
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- NII書誌ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL書誌ID
- 026983449
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles