依頼講演 Co/Si界面の酸化物層がショットキー障壁高さと接触抵抗に及ぼす影響
Bibliographic Information
- Other Title
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- イライ コウエン Co/Si カイメン ノ サンカブツソウ ガ ショットキー ショウヘキ タカサ ト セッショク テイコウ ニ オヨボス エイキョウ
- Effect of an oxide layer at Co/Si interface on Schottky barrier height and contact resistivity
- シリコン材料・デバイス
- シリコン ザイリョウ ・ デバイス
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 119 (239), 35-38, 2019-10
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520572358741041536
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- NII Article ID
- 40022064621
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 030074183
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
