半導体の最新動向と真空装置
Bibliographic Information
- Other Title
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- ハンドウタイ ノ サイシン ドウコウ ト シンクウ ソウチ
- 特集 マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用
- トクシュウ マルチメディア ジダイ ニ オケル シンクウ ソウチ ト ハクマク
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Journal
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- 表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
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表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan 48 (11), 1043-1058, 1997-11
東京 : 表面技術協会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520572358746299648
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- NII Article ID
- 40004790475
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- NII Book ID
- AN1005202X
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- ISSN
- 09151869
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- NDL BIB ID
- 4334588
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles