招待講演 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス--細孔の評価と洗浄
Bibliographic Information
- Other Title
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- ショウタイ コウエン チョウリンカイ リュウタイ オ モチイタ タコウシツ テイユウデンリツ ハクマク プロセス サイコウ ノ ヒョウカ ト センジョウ
- Invited: Science in porosity engineering of low-k dielectrics using supercritical carbon dioxide: pore characterization and pore cleaning
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ザイリョウ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 110 (154), 23-28, 2010-07
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520572358847517312
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- NII Article ID
- 110008094807
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 10787374
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
