Correlation between surface topography and static capacitance image of iltrathin SiO2 films evaluated by scanning capacitance microscopy
この論文をさがす
抄録
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
-
- Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
-
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 46 (9A), 5992-5999, 2007-09
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
- Tweet
キーワード
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520572359307100288
-
- NII論文ID
- 40015602631
-
- NII書誌ID
- AA10457675
-
- ISSN
- 00214922
- 13474065
-
- NDL書誌ID
- 8910113
-
- 本文言語コード
- en
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZM35(科学技術--物理学)
-
- データソース種別
-
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles