イオン注入を用いた縦型GaN MOSFETの研究
Bibliographic Information
- Other Title
-
- イオン チュウニュウ オ モチイタ タテガタ GaN MOSFET ノ ケンキュウ
- Investigation of Vertical GaN MOSFET with Ion Implantation Process
- 特集 パワーエレクトロニクスの最新技術
- トクシュウ パワーエレクトロニクス ノ サイシン ギジュツ
Search this article
Journal
-
- Ceramics Japan = セラミックス : bulletin of the Ceramic Society of Japan
-
Ceramics Japan = セラミックス : bulletin of the Ceramic Society of Japan 54 (11), 730-733, 2019-11
東京 : 日本セラミックス協会
- Tweet
Keywords
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520572359610697984
-
- NII Article ID
- 40022529760
-
- NII Book ID
- AN00131516
-
- ISSN
- 0009031X
-
- NDL BIB ID
- 031371503
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
-
- Data Source
-
- NDL
- CiNii Articles
