平成20年度大阪大学工業会賞受賞研究 異種元素添加によるHf系高誘電率ゲート絶縁膜の高性能化に関する研究
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- ヘイセイ 20ネンド オオサカ ダイガク コウギョウカイショウ ジュショウ ケンキュウ イシュ ゲンソ テンカ ニ ヨル Hfケイ コウユウデンリツ ゲート ゼツエン マク ノ コウセイノウカ ニ カンスル ケンキュウ
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- Techno net : 大阪大学工業会誌
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Techno net : 大阪大学工業会誌 (549), 21-26, 2010-07
吹田 : 大阪大学工業会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520572360421726208
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- NII Article ID
- 40017342479
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- NII Book ID
- AA11542929
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- NDL BIB ID
- 10859983
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZW2(一般誌--交友会誌その他)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles