ミラートロンスパッタによるDC反応性スパッタSiO2膜の作製
書誌事項
- タイトル別名
-
- ミラートロンスパッタ ニ ヨル DC ハンノウセイ スパッタ SiO2 マク ノ サクセイ
- 特集 エレクトロニック・フィールド
- トクシュウ エレクトロニック フィールド
この論文をさがす
説明
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
-
- コンバーテック
-
コンバーテック 28 (6), 36-38, 2000-06
東京 : 加工技術研究会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520573329813200768
-
- NII論文ID
- 40004547508
-
- NII書誌ID
- AN10197190
-
- ISSN
- 09112316
-
- NDL書誌ID
- 5374785
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
-
- データソース種別
-
- NDLサーチ
- CiNii Articles
