反応性スパッタリングによるMo-Si-O薄膜の合成
書誌事項
- タイトル別名
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- ハンノウセイ スパッタリング ニ ヨル Mo Si O ハクマク ノ ゴウセイ
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抄録
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
収録刊行物
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- 旭硝子財団研究報告 / 旭硝子財団 [編]
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旭硝子財団研究報告 / 旭硝子財団 [編] (58), p35-40, 1991
東京 : 旭硝子財団
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520573330246546304
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- NII論文ID
- 40004888900
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- NII書誌ID
- AN10224497
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- ISSN
- 09167064
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- NDL書誌ID
- 3745026
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP1(科学技術--化学・化学工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles