フラッシュトンネル絶縁膜対応プラズマ窒化技術の開発
書誌事項
- タイトル別名
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- フラッシュトンネル ゼツエン マク タイオウ プラズマ チッカ ギジュツ ノ カイハツ
- Development of plasma nitridation technique for tunnel oxide film of a flash memory
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収録刊行物
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- 日立国際電気技報 / 企画部研究管理課 編
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日立国際電気技報 / 企画部研究管理課 編 (9), 6-10, 2008
羽村 : 日立国際電気
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520573331115585408
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- NII論文ID
- 40016599408
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- NII書誌ID
- AA11814100
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- ISSN
- 13465953
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- NDL書誌ID
- 10241322
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles