高周波-大電力パルススパッタリング法を用いたDLC成膜における放電特性と薄膜特性の関係
Bibliographic Information
- Other Title
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- コウシュウハ-ダイ デンリョク パルススパッタリングホウ オ モチイタ DLCセイマク ニ オケル ホウデン トクセイ ト ハクマク トクセイ ノ カンケイ
- Relationship between discharge characteristics and thin film properties in DLC film deposition using high frequency-high power impulse magnetron sputtering method
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- フロンティア理工学研究所研究報告 = The bulletin of Research Institute of Frontier Science and Technology / 岡山理科大学フロンティア理工学研究所 編
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フロンティア理工学研究所研究報告 = The bulletin of Research Institute of Frontier Science and Technology / 岡山理科大学フロンティア理工学研究所 編 (3), 9-12, 2021-12
岡山 : 岡山理科大学フロンティア理工学研究所
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520574570170027648
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- NII Book ID
- AA12906306
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- ISSN
- 24353329
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- NDL BIB ID
- 032306840
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- Data Source
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