ラジカル支援原子層制御ナノプロセス
書誌事項
- タイトル別名
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- ラジカル シエン ゲンシソウ セイギョ ナノプロセス
- Radical Enhanced Atomic Layer-Level Metal-Organic Vapor Deposition
- 小特集 原子を積んで膜をつくる : ALDプロセスの化学工学的展開
- ショウトクシュウ ゲンシ オ ツンデ マク オ ツクル : ALD プロセス ノ カガク コウガクテキ テンカイ
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収録刊行物
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- 化学工学 = Chemical engineering of Japan
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化学工学 = Chemical engineering of Japan 80 (7), 424-427, 2016-07
東京 : 化学工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832333052800
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- NII論文ID
- 40020897427
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- NII書誌ID
- AN00037212
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- ISSN
- 03759253
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- NDL書誌ID
- 027518645
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles
