Growth and Characterization of YSZ Films on Thermally Oxidized Silicon Substrate

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1520853832600880896

• NII論文ID

  110000553890

• NII書誌ID

  AN10431017

• ISSN

  09199888

• NDL書誌ID

  6051473

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/6051473

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6051473

• 本文言語コード

  en

• NDL 雑誌分類

  • ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)

• データソース種別

  • NDLサーチ
  • CiNii Articles