次世代半導体リソグラフィの実用化に至るEUV光源のプラズマ研究開発のあゆみ
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- ジセダイ ハンドウタイ リソグラフィ ノ ジツヨウカ ニ イタル EUV コウゲン ノ プラズマ ケンキュウ カイハツ ノ アユミ
- The Progress on the Plasma Research for EUV Light Source for Next Generation Semiconductor Lithography
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- プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
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プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編 96 (6), 283-289, 2020-06
名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853832939241344
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- NII Article ID
- 40022300244
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- NII Book ID
- AN10401672
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- ISSN
- 09187928
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- NDL BIB ID
- 030548154
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN