ZrB2薄膜のキャラクタリゼーションとCu/SiO2間のバリヤ特性
Bibliographic Information
- Other Title
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- ZrB2 ハクマク ノ キャラクタリゼーション ト Cu SiO2カン ノ バリヤ トクセイ
- Characterization and barrier properties of ZrB2 thin films for Cu interconnects
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ザイリョウ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107 (325), 35-38, 2007-11
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833261095552
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- NII Article ID
- 110006533236
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 9292670
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL Search
- CiNii Articles