サファイアの反応性イオンエッチングにおけるマスク材が表面粗さに与える影響
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- サファイア ノ ハンノウセイ イオンエッチング ニ オケル マスクザイ ガ ヒョウメン アラサ ニ アタエル エイキョウ
- Effect of masking material to surface roughness at reactive ion etching process of sapphire substrate
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- 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]
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「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31 1-4, 2014-10
[東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan
