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- コウザ プロセス Microprocessor Report シ トクヤク IBM シャ ノ プロセス ギジュツ 0 10マイクロm ルール ジダイ モ シュヤク ニ
- 講座 プロセス:IBM社のプロセス技術 0.10nmルール時代も主役に:Cu,SOIに続き,low-kとEBでも先行
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米IBM社は,常に半導体業界におけるプロセス技術の牽引けんいん者である。2年前にはCu配線,1年前にはSOI基板について発表し,どちらもすでに量産技術として使用している。先日,low-k材料としてSiLKを使用する計画を明らかにした。また,投影型の電子ビーム露光を用いた微細化技術でも先行している。
Journal
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- 日経エレクトロニクス = Nikkei electronics : sources of innovation
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日経エレクトロニクス = Nikkei electronics : sources of innovation (778), 157-172, 2000-09-11
東京 : 日経BP
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833776036096
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- NII Article ID
- 140000162558
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- NII Book ID
- AN0018467X
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- ISSN
- 03851680
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- NDL BIB ID
- 5473188
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- Nikkei BP
- CiNii Articles