Analysis of Pattern Collapse of Electron Beam Resist Ranging from 60 to 152 nm Width with Atomic Force Microscope Tip
Bibliographic Information
- Other Title
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- 原子間力顕微鏡を用いた線幅60～152nmの電子線用レジストパターンの倒壊特性の解析
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Journal
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- 日本接着学会誌 = Journal of the Adhesion Society of Japan : adhesion
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日本接着学会誌 = Journal of the Adhesion Society of Japan : adhesion 38 (1), 16-19, 2002
大阪 : 日本接着学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833829166848
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- NII Article ID
- 10007491584
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- NII Book ID
- AN10341672
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- ISSN
- 09164812
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- NDL BIB ID
- 6041182
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles