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Low temperature hetero-epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin-transistor application

Bibliographic Information

Other Title
  • Low temperature hetero epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin transistor application
  • 強磁性体シリサイド/Geの低温エピタキシャル成長とスピントランジスタ
  • Electron devices: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007)
  • Electron devices ダイ 15カイ センタン ハンドウタイ デバイス ノ キソ ト オウヨウ ニ カンスル アジア タイヘイヨウ ワークショップ AWAD 2007

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Details

  • CRID
    1520853833972476928
  • NII Article ID
    110006343819
    110006343275
  • NII Book ID
    AA1123312X
  • ISSN
    09135685
  • NDL BIB ID
    8805133
    8803939
  • Text Lang
    en
  • NDL Source Classification
    • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • Data Source
    • NDL
    • CiNii Articles
    • KAKEN

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