招待講演 高NA(1.07)液浸リソグラフィ技術を用いた45nm世代高性能システムLSIプラットフォーム技術(CMOS6)

書誌事項

タイトル別名
  • ショウタイ コウエン コウNA 1 07 エキシンリソグラフィ ギジュツ オ モチイタ 45nm セダイ コウセイノウ システム LSI プラットフォーム ギジュツ CMOS6
  • IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
  • IEDM トクシュウ センタン CMOS デバイス プロセス ギジュツ

この論文をさがす

収録刊行物

参考文献 (1)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ