プラズマ酸化、酸窒化、窒化によるゲート絶縁膜中に含まれる希ガス原子が電気的特性に与える影響
書誌事項
- タイトル別名
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- プラズマ サンカ サン チッカ チッカ ニ ヨル ゲート ゼツエン マク チュウ ニ フクマレル キガス ゲンシ ガ デンキテキ トクセイ ニ アタエル エイキョウ
- 特集:プロセスクリーン化と新プロセス技術
- トクシュウ プロセスクリーンカ ト シン プロセス ギジュツ
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 102 (415), 19-26, 2002-10-28
東京 : 電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834245537024
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- NII論文ID
- 110003308038
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- NII書誌ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL書誌ID
- 6360083
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles