書誌事項
- タイトル別名
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- ショウタイ コウエン ダブルパターニング ギジュツ ノ カイハツ ト オウヨウ
- Important challenges for Double Patterning process
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収録刊行物
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- 半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 = Proceedings of Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology
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半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 = Proceedings of Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology 41 45-48, 2010-07
東京 : 電気化学会電子材料委員会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853834985768576
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- NII論文ID
- 10027629489
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- NII書誌ID
- AN00348438
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- NDL書誌ID
- 026698674
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles