電子ビーム蒸着法による多結晶Si薄膜の作成
書誌事項
- タイトル別名
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- デンシ ビーム ジョウチャクホウ ニヨル タケッショウ Si ハクマク ノ サ
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収録刊行物
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- 石川工業高等専門学校紀要 = Memoirs of National Institute of Technology, Ishikawa College / 石川工業高等専門学校 編
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石川工業高等専門学校紀要 = Memoirs of National Institute of Technology, Ishikawa College / 石川工業高等専門学校 編 (29), 15-19, 1997-03
津幡町 (石川県) : 石川工業高等専門学校
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853835154487552
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- NII論文ID
- 110000107026
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- NII書誌ID
- AN00014363
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- ISSN
- 02866110
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- NDL書誌ID
- 4170286
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles