Nanoscale analysis of electron irradiation-enhanced diffusion process on the multilayer interfaces of W-Al2O3-Ti/Cu
書誌事項
- タイトル別名
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- Nanoscale analysis of electron irradiation-enhanced diffusion process on the multilayer interfaces of W-Al2O3-Ti Cu
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収録刊行物
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- Journal of electron microscopy
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Journal of electron microscopy 48 (6), 899-903, 1999
Oxford : Published for the Japanese Society of Electron Microscopy by Oxford University Press
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520854805369758848
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- NII論文ID
- 10008816352
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- NII書誌ID
- AA00697060
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- ISSN
- 00220744
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- NDL書誌ID
- 4976740
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles