ダブルパターニング技術による微細化の可能性
書誌事項
- タイトル別名
-
- ダブルパターニング ギジュツ ニ ヨル ビサイカ ノ カノウセイ
- Important challenge of photographic scaling on double patterning
- 特集 次世代リソグラフィ,注目の技術
- トクシュウ ジセダイ リソグラフィ チュウモク ノ ギジュツ
この論文をさがす
収録刊行物
-
- Optronics : 光技術コーディネートジャーナル
-
Optronics : 光技術コーディネートジャーナル 29 (12), 64-68, 2010-12
東京 : オプトロニクス社
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1521699230762990976
-
- NII論文ID
- 40017425872
-
- NII書誌ID
- AN00360965
-
- ISSN
- 02869659
-
- NDL書誌ID
- 10930979
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles