マイクロ波プラズマCVD法によるa-SiGe:H膜の作成--成膜圧力と反応ガス組成の影響

Details 詳細情報について

• CRID

  1521699230842568448

• NII Article ID

  40004297889

• NII Book ID

  AN00261409

• ISSN

  0387916X

• NDL BIB ID

  3229620

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/3229620

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3229620

• Text Lang

  ja

• NDL Source Classification

  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)

• Data Source

  • NDL
  • CiNii Articles