電子ビームマスク描画装置EBM-8000
書誌事項
- タイトル別名
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- デンシ ビームマスク ビョウガ ソウチ EBM-8000
- EBM-8000 Electron Beam Mask Writer for Mask Fabrication in Manufacturing of Semiconductor Devices of 22nm Node and Beyond
- 特集 半導体の進化を支えるリソグラフィ技術
- トクシュウ ハンドウタイ ノ シンカ オ ササエル リソグラフィ ギジュツ
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収録刊行物
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- 東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作
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東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作 67 (4), 20-23, 2012-04
東京 : 東芝技術企画部
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1522262178385749632
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- NII論文ID
- 40019317066
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- NII書誌ID
- AN00166099
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- ISSN
- 03720462
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- NDL書誌ID
- 023762121
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles