A High-Temperature Nitrogen Plasma Etching for Preserving Smooth and Stoichiometric GaN Surface
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収録刊行物
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- Applied physics express : APEX
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Applied physics express : APEX 6 (5), 056201-, 2013-05
Tokyo : Japan Society of Applied Physics
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1522262180733318144
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- NII論文ID
- 10031174341
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- NII書誌ID
- AA12295133
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- ISSN
- 18820778
- 18820786
- http://id.crossref.org/issn/18820786
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- NDL書誌ID
- 024520442
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDL
- Crossref
- CiNii Articles