低温プロセスによる薄膜形成技術(NEW・1)プラスチック基材への高品質ITO薄膜の作製

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タイトル別名
  • テイオン プロセス ニ ヨル ハクマク ケイセイ ギジュツ NEW 1 プラスチック キザイ エ ノ コウヒンシツ ITO ハクマク ノ サクセイ

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  • CRID
    1522825130155350656
  • NII論文ID
    40018761518
  • NII書誌ID
    AN10197190
  • ISSN
    09112316
  • NDL書誌ID
    11040959
  • Web Site
    https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I11040959
  • 本文言語コード
    ja
  • NDL 雑誌分類
    • ZP17(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業--ゴム・プラスチックス)
  • データソース種別
    • NDL
    • CiNii Articles

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