SIMS proceedings paper : Time-of-flight SIMS depth profiling of Na in SiO₂ glass using C₆₀ sputter ion beam
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Journal
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- Research report of Asahi Glass Co., Ltd. = 旭硝子研究報告
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Research report of Asahi Glass Co., Ltd. = 旭硝子研究報告 63 33-36, 2013
横浜 : 旭硝子中央研究所
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1523106604935921024
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- NII Article ID
- 40019822714
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- NII Book ID
- AN00010566
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- ISSN
- 00044210
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- NDL BIB ID
- 024922629
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
