304 Si含有炭素系膜および基材界面近傍における残留応力挙動(薄膜の非破壊評価,非破壊材料・強度評価の応用,オーガナイスドセッション3)
書誌事項
- タイトル別名
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- 304 Residual Stress Behavior in Si Content Carbon Films and Surface of Substrates
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収録刊行物
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- 学術講演会講演論文集
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学術講演会講演論文集 60 25-26, 2011-05-24
日本材料学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1540854195340291456
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- NII論文ID
- 110009484672
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- NII書誌ID
- AA11881527
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- NDL-Digital
- CiNii Articles