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- 井上 隆
- NEC関西エレクトロニクス研究所
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- ウォルター コントラータ
- NEC関西エレクトロニクス研究所
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- 大畑 恵一
- NEC関西エレクトロニクス研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- A Simple Determination Method for the Source and Drain Resistances in the Ultra-Short Schottky-Gate FETs
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説明
ショットッキー・ゲートFETのソース及びドレイン抵抗値 (Rs、Rd) を正確に評価するために、簡便なDC測定を用いる方法、"Vf法"を提案する。本方法は、基本的にはゲートをプローブとして用いる手法を精密化したものであるが、理想因子n値が比較的大きい (1.2以上) FETにも有効である。また、本方法ではゲートに順方向バイアスを印加して、実効的な印加電圧が順方向立ち上がり電圧Vf程度になるようにする。その時、ゲートでの位置によらず、n値や見かけの障壁高さΦ_Bが一定という意味で、ゲート電流密度特性はほとんど均一となる。従って本方法は、ゲート長Lgが0.15μm以下の超微細ゲートFETでも、Rs、Rdを簡便かつ正確に評価できる。
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. MW, マイクロ波
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電子情報通信学会技術研究報告. MW, マイクロ波 97 (288), 51-56, 1997-09-26
一般社団法人電子情報通信学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570291227453977344
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- NII論文ID
- 110003189248
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- NII書誌ID
- AN10013185
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles